光刻質(zhì)量的好壞對(duì)產(chǎn)品的性能影響很大，是影響成品率的關(guān)鍵因素之一。隨著高密度點(diǎn)陣類(lèi)液晶顯示器、有源矩陣液晶顯示器的飛速發(fā)展，顯示屏上的圖形越來(lái)越復(fù)雜，精密度越來(lái)越高，光刻技術(shù)就顯得更為重要。目前在生產(chǎn)中最普遍采用的光刻方法是接觸曝光法。

1)涂膠

   涂膠是光刻的首道工序，它是在IT0玻璃表面上涂一層光刻膠。涂膠效果控制好壞直接影響光刻質(zhì)量，因此在操作時(shí)應(yīng)將光刻膠按要求準(zhǔn)備好，并控制好光刻膠的涂層厚度、均性和涂層表面狀態(tài)等。

涂膠方法有浸涂、甩涂、輥涂等，其中輥涂的涂覆質(zhì)量好于其他兩種，它是通過(guò)膠輥將光刻膠均勻地涂在玻璃上。為了保證膠膜的質(zhì)量，涂膠工序應(yīng)在潔凈條件下進(jìn)行，溫度為22+3℃，濕度低于60%，并在不含紫外光成分的黃燈條件下進(jìn)行操作。

光刻膠一般在低溫避光條件下存儲(chǔ)，因此在使用光刻膠前一定先把膠從低溫條件下取出在使用場(chǎng)地放置至瓶?jī)?nèi)膠的溫度與環(huán)境溫度相同時(shí)才能打開(kāi)瓶蓋。

光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān)。光刻膠配比的原則是，既要使光刻膠具有良好的抗蝕能力，又要有較高的分辨率。但是往往是互相矛盾的，不能同時(shí)達(dá)到。因此，必須根據(jù)不同的光刻對(duì)象和要求，選取不同的配比。

由于光刻膠中溶劑用量的多少?zèng)Q定著光刻膠的稀稠，從而影響光刻膠的厚薄。當(dāng)使用較稀的光刻膠的情況下，制備的光刻膠膜比較薄，光的散射和衍射作用的影響較弱，光刻出來(lái)的圖形清晰，邊緣整齊。當(dāng)使用較濃的光刻膠時(shí)，制備的光刻膠膜比較厚，可以用來(lái)刻蝕較厚的ITO 層。

光刻膠的配制應(yīng)在潔凈度較高的暗室中紅燈或黃燈下進(jìn)行。用量筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好，再將溶劑倒入原膠，用玻璃棒充分?jǐn)嚢枋顾鼈兙旌?。為了降低膠液中的固態(tài)含有率，改善膠膜和掩模版的接觸以減少膠膜針孔和提高分辨率，必須把配制好的光刻膠中未能溶解的固態(tài)雜質(zhì)微粒濾除。通常采用的方法有加壓法、吸引法、自然滴下法。此外，也可以使用自然沉淀法或高速離心沉淀法進(jìn)行過(guò)濾。過(guò)濾好的光刻膠應(yīng)裝在暗色的玻璃瓶中，并保存在陰涼和干燥的暗箱里。

涂膠前的TT0玻璃表面狀況對(duì)光刻膠與ITO層黏附質(zhì)量影響極大，在生產(chǎn)中為保證TT0與光刻膠間有良好的接觸和黏附效果，清洗后的玻璃經(jīng)紫外光照射對(duì)其表面進(jìn)行活化處理,然后再涂光刻膠。

涂膠的質(zhì)量要求有如下幾條:

>膠與TO 黏附良好，不能有膠脫落現(xiàn)象

 >涂層厚度均勻一致，不能有厚有薄，不然在顯影、刻蝕時(shí)會(huì)出現(xiàn)圖形缺陷》涂層表面狀態(tài)不能有條紋、針孔、突起等缺陷

2) 前烘

前烘的目的是促使膠膜內(nèi)溶劑充分揮發(fā)，使膠膜干燥以增加膠膜與IO表面的黏附性和膠膜的耐磨性。曝光時(shí)，掩模版與光刻膠即使接觸也不會(huì)損傷光刻膠膜和沾污掩模版。同時(shí)，只有光刻膠干燥，在曝光時(shí)，才能充分進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)。

目前常用的前烘方式有兩種:一種是在恒溫干燥箱中烘干;另一種是用紅外爐中烘干。前者采用電熱絲加熱至一定溫度，使光刻膠從外向里逐漸干燥，干燥時(shí)間較長(zhǎng);后者采用紅外光輻射，光刻膠的干燥是從膠膜與IO層交界面開(kāi)始逐漸向外揮發(fā)溶劑，其干燥效果好于前者且時(shí)間較短。

影響前烘質(zhì)量的主要因素是烘干溫度和烘干時(shí)間。膠膜烘烤不足時(shí)(溫度過(guò)低或時(shí)間過(guò)短)，膠膜內(nèi)的溶劑未充分揮發(fā)掉，曝光顯影時(shí)，未受光的部分也被溶除形成浮膠或使圖形變形;膠膜烘烤時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或溫度過(guò)高時(shí)，會(huì)導(dǎo)致膠膜翹曲硬化，在顯影時(shí)會(huì)顯不出圖形或圖形留有底膜。

3) 曝光

曝光就是在涂好光刻膠的玻璃表面覆蓋掩模版，通過(guò)紫外光進(jìn)行選擇性照射，使受光照部位的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，改變了這部分膠膜在顯影液中的溶解度。顯影后，光刻膠膜顯現(xiàn)出與掩模版相對(duì)應(yīng)的圖形。

一般曝光的操作過(guò)程是先將曝光機(jī)的紫外光燈打開(kāi)預(yù)熱，待電源穩(wěn)定，光刻版放在版框上通過(guò)顯微鏡進(jìn)行初對(duì)位。初調(diào)好的版框圖形面向下放入曝光機(jī)框架上，取一張涂有光刻膠的玻璃，膠面朝上放在曝光平臺(tái)，用定位銷(xiāo)定位。曝光做實(shí)驗(yàn)，曝光的玻璃經(jīng)顯影取出，在顯微鏡下檢查玻璃與版對(duì)位精度，不符合要求時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)平臺(tái)定位銷(xiāo)使版的對(duì)位標(biāo)記滿(mǎn)足要求。

曝光時(shí)間和曝光強(qiáng)度選擇是根據(jù)版的質(zhì)量、光刻膠性質(zhì)、光源強(qiáng)弱和光源到TTO玻璃的距離等因素來(lái)確定的，一般通過(guò)做一張?jiān)嚻?jīng)顯影后檢查圖形效果再?zèng)Q定曝光條件。曝光時(shí)間過(guò)短，光刻膠感光不足，其化學(xué)反應(yīng)不充分，顯影時(shí)受光部分溶解不徹底，易留底膜;曝光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，不該曝光部分邊緣也被微弱感光，刻蝕后圖形邊界模糊，細(xì)線(xiàn)條變形嚴(yán)重。

4)顯影

顯影就是將感光部分的光刻膠溶除，留下未感光部分的膠膜從而顯示所需的圖形。

顯影過(guò)程是將曝光后的玻璃放入顯影槽中，顯影液通過(guò)搖擺的噴頭噴灑在玻璃的光刻膠面上，經(jīng)過(guò)一定時(shí)間顯出圖形后，玻璃再通過(guò)水洗，將顯影液沖掉。

顯影時(shí)必須控制好時(shí)間和溫度，溫度和時(shí)間直接影響顯影速度，若顯影時(shí)間不足或溫度低，則感光部的光刻膠不能完全溶解，留有一層光刻膠，在刻蝕時(shí)，這層膠會(huì)對(duì)0膜起保護(hù)作用，使應(yīng)該刻蝕的ITO被保護(hù)下來(lái)。若顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或溫度過(guò)高，顯影時(shí)未被曝光的光刻膠會(huì)被從邊緣向里鉆溶，使圖形邊緣變差，嚴(yán)重時(shí)會(huì)使光刻膠大片剝落形成脫膠。

5)堅(jiān)膜

由于顯影時(shí)光刻膠膜發(fā)生軟化、膨脹，影響膠膜的抗蝕能力，因此顯影后必須用適當(dāng)溫度烘焙玻璃以除去水分，增強(qiáng)膠膜與玻璃的黏附性，這個(gè)過(guò)程叫堅(jiān)膜。堅(jiān)膜的方法有兩種:一種是用烘箱堅(jiān)膜;另一種是用紅外光堅(jiān)膜。

6)刻蝕

刻蝕是用一定比例的酸液把玻璃上未受光刻膠保護(hù)的ITO膜腐蝕掉，而將有光刻膠保護(hù)的ITO 膜保存下來(lái)，最終形成ITO 圖形。

選用的腐蝕液必須能腐蝕掉ITO膠又不能損傷玻璃表面和光刻膠，一般選用一定比例的HCI、HNO,和水的混合液。

刻蝕的溫度和時(shí)間對(duì)刻蝕效果影響很大，兩者的變化也影響到刻蝕速度。一般恒定刻蝕溫度，用時(shí)間調(diào)整刻蝕效果。刻蝕時(shí)間應(yīng)由刻蝕速度和ITO膜厚度來(lái)確定，ITO膜越厚刻蝕時(shí)間就越長(zhǎng)。

7)去膜和清洗

去膜是在一定溫度條件下，用堿液沖洗并用滾刷擦洗玻璃以保證將玻璃上殘膠去除干凈同時(shí)用滾刷擦洗玻璃，最后用高純水沖洗玻璃上殘留堿液同時(shí)沖洗殘膠。